The production of the main material of self-adhesive butyl moisture-proof membrane uses polymer materials such as butyl as the main raw materials, kneading with an appropriate amount of bulking agents, softeners, antioxidants, etc, and can be processed into the products in different sizes according to the clients’ requirements. One side of the main material is covered by a surface layer (which may use various kinds of plastic films, non-woven fabrics, aluminum foils, etc.), and the other side is covered by release paper.

Scellage
Imperméabilisation
Protection contre l’humidité
Respectueux de l’environnement
Installation facile
Haute efficacité

CARACTÉRISTIQUES ET OBJECTIFS

Le produit présente des performances stables, une excellente résistance au séchage et des propriétés auto-adhésives élevées, ainsi qu’un certain degré de plasticité et de ductilité. Il peut être utilisé pour combler les petites fissures lors des travaux de construction et s’adapter automatiquement aux faibles déformations de la structure ainsi qu’aux microfissures dues au retrait du béton et du ciment.

Lors de son utilisation, le matériau principal de ce produit adhère à la surface à imperméabiliser grâce à ses propriétés auto-adhésives, éliminant ainsi le besoin de chauffage ou de recourir à d’autres adhésifs ou solvants. L’application est pratique, efficace et respectueuse de l’environnement. Le ruban d’étanchéité auto-adhésif ne dégage aucun gaz toxique ni nocif pendant l’application ni lors de son utilisation, ce qui lui permet d’être employé dans divers espaces clos sans nuire à la santé humaine ni à l’environnement. Des produits aux propriétés spéciales, telles que la résistance au feu ou l’isolation thermique, peuvent également être fabriqués sur demande.

APPLICATIONS :

Le produit est généralement appliqué sur les surfaces des bâtiments nécessitant d’empêcher la pénétration (ou la fuite) de vapeur (d’eau), par exemple les murs des chambres froides, les plafonds, les sols, les sous-sols, les toitures, les toilettes, les cuisines, etc.